书目详细信息
： Electron-beam,x-ray and ion-beam ion-beam techniques for submicrometer lithographies V V.632
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-89252-667-x:￥241.53 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Electron-beam,x-ray and ion-beam ion-beam techniques for submicrometer lithographies V V.632/.by SPIE |
| 出版发行项： | Santa clara:,SPIE:,1986.4 |
| 载体形态项： | 272页:;+16开 |
| 一般附注： | SPIE‘s symposium on microlithography |
| 记录来源： | CN 20061128 |