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书目详细信息： Photomask and next-generation lithography mask technology X V.5130

ISBN/价格：	0-8194-4996-2:RMB1805.00
作品语种：	eng
题名责任者项：	Photomask and next-generation lithography mask technology X V.5130/.by SPIE
出版发行项：	Bellingham:,SPIE:,2003.4
载体形态项：	1066p:;+fig.:;+28cm
记录来源：	CN 20040227

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