书目详细信息
： Electron-beam, x-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI V.2723
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-2099-9:￥128.00 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Electron-beam, x-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI V.2723/.SPIE |
| 出版发行项： | Santa Clara:,SPIE:,1996.3 |
| 载体形态项： | 412页 |
| 一般附注： | SPIE‘s symposium on microlithography |
| 个人名称等同： | SPIE |