书目详细信息
： Advances in mirror technology for X-ray,EUV lithography,laser,and other applications V.5193
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-5066-9:RMB665.00 |
|---|---|
| 作品语种： | eng |
| 题名责任者项： | Advances in mirror technology for X-ray,EUV lithography,laser,and other applications V.5193/.by SPIE |
| 出版发行项： | Bellingham:,SPIE:,2003.8 |
| 载体形态项： | 222p:;+ill.:;+26cm |
| 记录来源： | CN 20040510 |