书目详细信息
： Photomask japan 2015:photomask and next-generation lithography mask technology XXII
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-1-6284-1871-2:RMB |
|---|---|
| 作品语种： | eng |
| 题名责任者项： | Photomask japan 2015:photomask and next-generation lithography mask technology XXII Vol.9658/.by SPIE |
| 出版发行项： | Bellingham:,SPIE:,2015.4 |
| 载体形态项： | multi-stage:;+ill.:;+29cm |
| 记录来源： | CN 20160321 |