书目详细信息
： Electron-beam, x-ray, and ion-beam lithographies VI V.773
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-89252-808-7:￥209.35 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Electron-beam, x-ray, and ion-beam lithographies VI V.773/.by SPIE |
| 出版发行项： | Santa Clara:,SPIE:,1987.3 |
| 载体形态项： | 265页:;+16开 |
| 一般附注： | SPIE‘s symposium on microlithography |
| 个人名称等同： | SPIE |