书目详细信息
： Photomask and next-generation lithography mask technology VII V.4066
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-3702-6:RMB1580.52 |
|---|---|
| 作品语种： | en |
| 出版国别： | CN |
| 题名责任者项： | Photomask and next-generation lithography mask technology VII V.4066/. SPIE |
| 出版发行项： | Bellingham:,SPIE:,2000.4 |
| 载体形态项： | 750页:;+16开 |
| 一般附注： | Proceedings of SPIE. V.4066 |
| 记录来源： | CN 20010325 |