书目详细信息
： Advances in resist technology V.469
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-89252-504-5:￥80.42 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Advances in resist technology V.469/.by SPIE |
| 出版发行项： | Santa Clara:,SPIE:,1984.3 |
| 载体形态项： | 195页:;+16开 |
| 一般附注： | SPIE‘s symposium on microlithography |
| 题名主题： | OPTICAL LITHOGRAPHY |
| 题名主题： | CHEMICAL SCRIBING |
| 题名主题： | PHOTORESIST |
| 题名主题： | PHOTOETCHING MATERIALS |
| 记录来源： | CN 20061127 |