书目详细信息
： Advances in resist technology and processing II V.539
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-89252-574-6:￥204.39 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Advances in resist technology and processing II V.539/.by SPIE |
| 出版发行项： | Santa Clara:,SPIE:,1985.3 |
| 载体形态项： | 350页:;+16开 |
| 一般附注： | SPIE‘s symposium on microlithography |
| 题名主题： | OPTICAL LITHOGRAPHY |
| 题名主题： | OPTICAL TECHNOLOGY |
| 题名主题： | THIN FILM INTEGRATED CIRCUIT |
| 题名主题： | PHOTORESIST |
| 记录来源： | CN 20061127 |