书目详细信息
： Electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing IV V.2194
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-1489-3:￥1101.74 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing IV V.2194/.SPIE |
| 出版发行项： | San Jose:,SPIE:,1994.2 |
| 载体形态项： | 420页 |
| 一般附注： | SPIE‘s symposium on microlithography |
| 个人名称等同： | SPIE |