书目详细信息
： Electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing III V.1924
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-1158-2:￥1375.81 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Electron-beam, x-ray, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing III V.1924/.SPIE |
| 出版发行项： | San Jose:,SPIE:,1993.3 |
| 载体形态项： | 470页 |
| 一般附注： | SPIE symposium on microlithography |
| 个人名称等同： | SPIE |