书目详细信息
： Photomask and next-generation lithography mask technology XII V.5853(part 2-2)
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-5853-8:RMB |
|---|---|
| 作品语种： | eng |
| 题名责任者项： | Photomask and next-generation lithography mask technology XII V.5853(part 2-2)/.by SPIE |
| 出版发行项： | Bellingham:,SPIE:,2005.4 |
| 载体形态项： | 525-1048p:;+ill.:;+29cm |
| 记录来源： | CN 20060112 |