书目详细信息
： Photomask and next-generation lithography mask technology XI V.5446(part 2-1)
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-5369-2:RMB1710.00 |
|---|---|
| 作品语种： | eng |
| 题名责任者项： | Photomask and next-generation lithography mask technology XI V.5446(part 2-1)/.by SPIE |
| 出版发行项： | Bellingham:,SPIE:,2004.4 |
| 载体形态项： | 450p:;+ill.:;+28cm |
| 记录来源： | CN 20050114 |