书目详细信息
： Photomask and next-generation lithography mask technology XIX Vol.8441
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 978-0-8194-9136-7:RMB251.4 |
|---|---|
| 作品语种： | eng |
| 题名责任者项： | Photomask and next-generation lithography mask technology XIX Vol.8441/.by SPIE |
| 出版发行项： | Bellingham:,SPIE:,2012.4 |
| 载体形态项： | multi-stage:;+ill.:;+29cm |
| 记录来源： | CN 20130603 |