书目详细信息
： Monitoring and control of plasma-enhanced processing of semiconductors V.1037
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-0072-6:￥232.17 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Monitoring and control of plasma-enhanced processing of semiconductors V.1037/.by SPIE |
| 出版发行项： | Santa Clara:,SPIE:,1988.11 |
| 载体形态项： | 147页:;+16开 |
| 一般附注： | OPTCON ‘88 Santa Clara |
| 题名主题： | SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY |
| 题名主题： | SPECTROSCOPY |
| 题名主题： | PLASMA MACHINING |
| 题名主题： | DEPOSITION |
| 记录来源： | CN 20061201 |