书目详细信息
： 14th Annual symposium on photomask technology and management V.2322
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-1653-3:￥1331.82 |
|---|---|
| 题名责任者项： | 14th Annual symposium on photomask technology and management V.2322/.SPIE |
| 出版发行项： | Santa Clara:,SPIE:,1994.9 |
| 载体形态项： | 454页 |
| 一般附注： | Annual symposium on photomask technology and management |
| 个人名称等同： | SPIE |