书目详细信息
： Photomask and next-generation lithography mask technology IX V.4754
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-8194-4517-7:RMB1615.00 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Photomask and next-generation lithography mask technology IX V.4754/.by SPIE |
| 出版发行项： | Bellingham:,SPIE:,2001.4 |
| 载体形态项： | 918页:;+16开 |
| 丛编项： | Proceedings of SPIE V.4754 |
| 记录来源： | 20030303 |