书目详细信息
： Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III V.471
书目信息 机读格式(MARC)
| ISBN/价格： | 0-89252-506-1:￥56.09 |
|---|---|
| 题名责任者项： | Electron-beam, x-ray, and ion-beam techniques for submicrometer lithographies III V.471/.by SPIE |
| 出版发行项： | Santa Clara:,SPIE:,1984.3 |
| 载体形态项： | 136页:;+16开 |
| 一般附注： | SPIE‘s symposium on microlithography |
| 题名主题： | OPTICAL LITHOGRAPHY |
| 题名主题： | ELECTRON BEAM |
| 题名主题： | ION BEAMS |
| 题名主题： | X-RADIATION |
| 记录来源： | CN 20061127 |