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书目详细信息： 平面及IV型凹面全息光栅曝光系统设计与掩模制作关键技术研究

ISBN/价格：	80.00元
作品语种：	chi
出版国别：	CN 220170
题名责任者项：	平面及IV型凹面全息光栅曝光系统设计与掩模制作关键技术研究/.李文昊著
出版发行项：	长春:,长春光机与物理研究所:,2008.4
载体形态项：	121页:;+图:;+29cm
个人名称等同：	李文昊著
记录来源：	CN 20080717

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